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苏州华林科纳半导体技术设备有限公司

半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等
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全自动硅块酸洗机、双槽清洗机、单槽清洗机,双边研磨清洗机

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苏州华林科纳半导体技术设备有限公司

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  • 品牌:

    CSE

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    111台

  • 地址:

    江苏苏州市

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详情描述


产品简介:

 

该设备适用于2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸硅晶圆片的清洗腐蚀,德国进口磁白PP板经雕刻后热弯/焊接组合加工;

一、槽体结构:该槽体实现腐蚀后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。

二、工艺控制:快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型专用控制器保证。

它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能,有需求此方面设备的朋友,欢迎来电咨询

 

 

 

部分客户:

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关于我们:

 

苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所合资成立于2008年3月,投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备的研发、技术推广和生产销售。
公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托,研发生产中高端半导体设备。公司以品质为根本,以创新为突破点,走设备研发与工艺研究相结合的道路,使设备能够满足和引领最新的工艺。公司的研发团队由张宝顺博士、王敏锐博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。

主要产品:显影机,RCA清洗机,EKC清洗机,外延片清洗机,抛光片清洗机,切片后清洗机,划片后清洗机,石英钟罩清洗机,氢氟酸清洗机,石英坩埚清洗机,硅片清洗机,二氧化硅清洗机,硅周清洗机,硅腐蚀机,挖槽机,记号腐蚀机,铝层腐蚀机,栅氧化清洗机,光刻显影机,光刻后清洗机,蚀刻机,衬件清洗机,蒸发前清洗机,部件清洗机,背面腐蚀清洗机,多层金属腐蚀机,去胶清洗台,背面处理清洗机,外延片清洗机,金属化后清洗机,金属膜刻蚀机,多功能清洗机,硅片腐蚀机,SK1腐蚀机,立式钟罩清洗机,花篮清洗机,超声波清洗机,兆声波清洗机,湿法清洗台,蓝宝石基片清洗机,砷化钾片清洗机,锗片清洗机,二流体清洗机,氮气储存柜,装片机,甩干机,IPA干燥机,烘干机,CDS系统,尾气处理机,硅片镀金台,倒片机,单片清洗机,边缘SiO2剥离机,硅微粉清洗机,液晶湿法清洗机,液晶减薄刻蚀机,玻璃清洗机,ADD电极显影机,BUS电极显影机,ITO PR剥膜机,ITO PR显影机,ITO刻蚀机,RIB PR显影机,电极再生清洗机,介质障壁再生清洗机,荧光体再生清洗机,SM清洗机,PR前清洗机,PI后清洗机,多晶硅料(块)清洗机,单晶硅料(块)清洗机,硅料酸洗机,硅芯硅棒清洗机,硅片制绒清洗机,电池片酸洗设备,去磷硅玻璃清洗机,石英管清洗机,石墨清洗机,石墨煮沸机,石墨件清洗机,白玻璃清洗机,光刻后玻璃清洗机,磨边后玻璃基板清洗机,PIN薄膜沉积前清洗,HF供酸机,HNO3供酸机,HCL供酸机,手动背面去胶机,LED晶片清洗机,硼扩散清洗机,退火清洗机等。

 
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企业简介
苏州华林科纳半导体技术设备有限公司
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立。总投资4500万元。主要从
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发货 江苏苏州市付款后3天内
库存 111台起订1台
品牌 CSE
产品别名 硅片清洗机
用途 适用于2-8英寸硅晶圆片的清洗腐蚀
规格 3000*1500*2000mm
过期 长期有效
更新 2015-08-21 16:46
商品图集

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