CM 2000/4实验室研磨机，实验室高剪切研磨机
实验室研磨散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
实验室研磨散机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下。在固态物质较多时也常常使用研磨分散机进行细化。
实验室研磨散机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相固体进入到另一互不相溶的连续相（通常液体）的过程的设备。而在通常情 况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。中试型研磨分散机机由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，中试型研磨分散机使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），从而使不相溶的固相、液相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过中试型研磨分散机高频的循环往复，最终得到稳定的高品质产品。
CM 2000/4实验室研磨机，实验室高剪切研磨机
研磨的效果跟一下有关：
研磨分散机
流量*
输出
线速度
功率
入口/出口连接
类型
l/h
rpm
m/s
kW
CMSD 2000/4
300
14,000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10,500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7,200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4,900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2,850
41
90
DN150/DN125
CMSD2000/50
60000
1,100
41
160
DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的10%。
影响分散研磨结果的因素有以下几点
1）磨头头的剪切速率 （越大，效果越好）
2）磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
3）物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
4）循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
CM 2000/4实验室研磨机，实验室高剪切研磨机
