科研实验专用氧化铜靶材CuO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
氧化铜（CuO）是一种铜的黑色氧化物，略显两性，稍有吸湿性。不溶于水和乙醇，溶于酸、氯化铵，氨溶液中缓慢溶解，能与强碱反应。氧化铜主要用于制人造丝、陶瓷、釉及搪瓷、电池、石油脱硫剂、杀虫剂，也供制氢、催化剂、绿色玻璃等用。
产品参数
中文名称：氧化铜
中文别名：氧化铜粉; 线状氧化铜; 纳米氧化铜;
英文名称：Cupric oxide
CAS号：1317-38-0
分子式：CuO
分子量：79.54540
精确质量：78.92450
PSA：17.07000
外观与性状：黑色结晶粉末
密度：6.315g/cm3
熔点：1326ºC
沸点：1026ºC (decomp)
折射率：2.63
纯度 99.9%
稳定性：稳定。 与还原剂，硫化氢，铝，碱金属，金属细粉末不相容。
储存条件：库房低温,通风,干燥,与食品原料分开存放
用途
气体分析中测定碳。有机反应催化剂。制造人造丝和其他铜化合物。光学玻璃发光剂。作为色料用于人造宝石、
有色玻璃、陶瓷釉彩
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
