科研实验专用硼靶材B靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
硼（B）不溶于水，粉末状的硼能溶于沸硝酸和硫酸，以及大多数熔融的金属（如：铜、铁、锰、铝和钙），常温时能与氟反应，不受盐酸和氢氟酸水溶液的腐蚀；硼为黑色或深棕色，硬度仅次于金刚石，质地较脆，在空气中氧化时由于三氧化二硼膜的形成而阻碍内部硼继续氧化；硼在常温时为弱电导体，而在高温时导电良好。在自然界中主要以硼酸和硼酸盐的形式存在。硼是一种用途广泛的化工原料矿物，主要用于生产硼砂、硼酸和硼的各种化合物以及元素硼，是冶金、建材、机械、电器、化工、轻毛、核工业、医药、农业等部门的重要原料；单质硼用作良好的还原剂，氧化剂，溴化剂，有机合成的掺合材料，高压高频电及等离子弧的绝缘体，雷达的传递窗等。
硼（B）溅射靶可用于半导体，化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）显示器和光学应用。
硼是一种黑色的非金属元素，硼化合物用于有机合成，制造特定类型的玻璃和木材防腐剂。除溅射靶材外，我们还可提供硼粉，棒材，片材，箔片，圆片，带材和细丝。
产品参数
中文名 硼 英文名Boron
分子量 10.81 沸点 4000℃
熔点 2076℃ 元素符号 B
CAS登录号7440-42-8 密度 2.46g/cm3
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
