电子束蒸发镀膜技术及设备是用于半导体元件和光学零件簿膜生产、研究的理想设备。在极限真空、防止油污染和缩短工作周期等方面都具有较好的性能。是用于单层/多层光学薄膜的生产也是比较理想的设备。
应用领域：
本机为电子枪蒸发式真空镀膜机，主要用于在玻璃镜片上镀制增透膜、分光膜、带通膜/截止膜、高反膜等各种膜系，能够实现100层膜的超大型膜系镀膜，也能满足在树脂镜片上镀制各种颜色的增透膜以及在太阳镜片上镀制红、黄、蓝、绿等颜色的反光膜，还适用于装饰品的镀膜，如七彩等颜色。
设备主要特点：
1. 配置超大坩埚电子枪，整个蒸发过程中膜料表面平整，蒸发分布均匀；
2. 配置石英晶体膜厚控制仪可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制；
3. 配置大功率离子源，膜厚质量好；
4. 总体结构设计合理，更符合工艺的要求，真空系统PLC自动控制，人机界面，操作方便。
1. 配置超大坩埚电子枪，整个蒸发过程中膜料表面平整，蒸发分布均匀；
2. 配置石英晶体膜厚控制仪可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制；
3. 配置大功率离子源，膜厚质量好；
4. 总体结构设计合理，更符合工艺的要求，真空系统PLC自动控制，人机界面，操作方便。
5. 真空操作系统实现互锁保护，扩散泵有断水、断相报警功能。
6. 采用触摸屏和PLC自动控制，实现对整机主要部件的参数化设置、实时运行监控及故障智能诊断。
主要技术指标：
1、真空工作室系统
内腔尺寸：直径×高度
真空系统：
机械泵--国产2x型旋片泵，可根据需要选用进口泵
罗茨泵--国产ZJ型罗茨泵，可根据需要选用进口泵
扩散泵--采用两台国产油扩散泵
深冷系统--可选配
冷阱--采用新型紧密水冷冷阱，有效降低扩散泵返油率
真空参数：
极限真空：3×10-4Pa
恢复真空时间：从大气抽至4×10-3Pa时间不大于15分钟
2、工件烘烤装置
采用上烘烤加热方式，不锈钢管状加热器作为加热源
1、真空工作室系统
内腔尺寸：直径×高度
真空系统：
机械泵--国产2x型旋片泵，可根据需要选用进口泵
罗茨泵--国产ZJ型罗茨泵，可根据需要选用进口泵
扩散泵--采用两台国产油扩散泵
深冷系统--可选配
冷阱--采用新型紧密水冷冷阱，有效降低扩散泵返油率
真空参数：
极限真空：3×10-4Pa
恢复真空时间：从大气抽至4×10-3Pa时间不大于15分钟
2、工件烘烤装置
采用上烘烤加热方式，不锈钢管状加热器作为加热源
温度控制范围：常温到350℃
PID温度控制系统，加热管功率多组独立可调
温度分布均匀度：±10℃
3、修正板机构：配有可倒式修正板，能进行自动控制
4、工件盘：采用整体工件盘，利于提高镀膜精度和均匀性
5、蒸镀系统：
蒸发方式--电子枪；
亦可使用进口电子枪
6、膜厚监控系统：
晶体膜厚控制仪--石英晶体监控仪，亦可选用可配单片式、双片式或六片式探头光学膜厚监控系统--选配
7、充气系统：
质量流量计控制系统
可选配压强控制仪
8、电气控制系统：可实现抽真空和镀膜过程自动控制亦可选配触摸屏界面。
PID温度控制系统，加热管功率多组独立可调
温度分布均匀度：±10℃
3、修正板机构：配有可倒式修正板，能进行自动控制
4、工件盘：采用整体工件盘，利于提高镀膜精度和均匀性
5、蒸镀系统：
蒸发方式--电子枪；
亦可使用进口电子枪
6、膜厚监控系统：
晶体膜厚控制仪--石英晶体监控仪，亦可选用可配单片式、双片式或六片式探头光学膜厚监控系统--选配
7、充气系统：
质量流量计控制系统
可选配压强控制仪
8、电气控制系统：可实现抽真空和镀膜过程自动控制亦可选配触摸屏界面。
