平面抛光机的用途：
平面抛光机、精密平面抛光机、双面抛光机主要用于光学玻璃、晶体、陶瓷、电子材料、硅、铐、手机玻璃屏、计算机磁盘、活塞环、陶瓷硬质合金密封件、钨钢片、铵铁硼、铁氧体、铌酸锂、热敏电阻等金属及非金属硬脆材料或异形件的双平面精密研磨或抛光。

平面抛光机的特点：
l、 采用日本SNC气动元件，分段精密加压控制，适合粗磨、中磨、精磨、精抛等工艺要求。
2、采用日本NSK主轴轴系：确保机床的精密性及耐用性。
3、上磨盘快升、快降、缓升、缓降集中于一个手柄，操作更方便。
4．独特的安全锁紧机构，防止意外断气，断电而“掉盘”伤人的意外发生。
5、独特的上盘自动浮动定位装置，减少了错盘，对盘的麻烦。
6、齿圈及挡水盘半自动升降系统，既方便取放工件及啮合齿轮，又满足改变游轮啮合高低位置的要求。

日本NSK主轴轴系：
机床选用该主轴轴系，能有效地确保产品恒久的稳定性，精密性及耐用性。