半导体行业用超纯水设备工艺

半导体行业用超纯水设备采用国际主流先进可靠产品,采用PLC 触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

半导体行业用超纯水设备工艺

预处理→UF系统→一级反渗透→PH调节→级间水箱→二级反渗透→中间水箱→中间水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→EDI装置→氮封水箱→增压水泵→抛光混床→循环增压泵→用水对象(≥18MΩ.CM)

半导体行业用超纯水设备特点

为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命,降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器,精密过滤器等预处理系统,RO反渗透主机系统,离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统,水泵均设有压力保护装置,在线水质检测控制仪表,电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

半导体行业用超纯水设备参数

1.原水水源(自来水,地下水井水,河水,湖水...),除了自来水,其它的水源,需要提供水质报告,水源不一样,处理工艺不一样,费用就有很大的差别；

2.配置(需要高端配置还是一般配置,就是指水泵有国产的还是进口的,反渗透膜用海德能的还是陶氏的...)；

3.控制(用PLC全自动控制,还是手动控制)；

4.出水水质要达到什么标准,电阻率要达到多少,有什么用途,如果不知道,也没关系,告诉我们您是做什么产品的,我们做给您设计出完全符合您生产要求的方案；